1、簡(jiǎn)介

掩膜版，也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微電子制造過(guò)程中的重要工具，主要用于圖形轉(zhuǎn)移。在光刻過(guò)程中，掩膜版承載了設(shè)計(jì)圖形，將其轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過(guò)刻蝕等工藝，將圖形刻到襯底上，從而實(shí)現(xiàn)圖形到硅片的轉(zhuǎn)移。這一過(guò)程類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”。

掩膜版的制造工藝流程包括數(shù)據(jù)準(zhǔn)備、光刻、顯影、定影和檢測(cè)等步驟。在數(shù)據(jù)準(zhǔn)備階段，將圖形數(shù)據(jù)庫(kù)中的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為掩膜版上的實(shí)際圖形。在光刻階段，利用光化學(xué)反應(yīng)將圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。在顯影和定影階段，通過(guò)化學(xué)試劑將光刻膠上的圖形顯現(xiàn)和固定在硅片上。最后，在檢測(cè)階段，對(duì)硅片上的圖形進(jìn)行檢測(cè)和測(cè)量，確保其符合設(shè)計(jì)要求。

掩膜版材料主要包括鉻、鋁、銅等金屬以及氟化鋇、氟化鈣等非金屬化合物。

2、產(chǎn)業(yè)鏈

掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈上游為原材料生產(chǎn)和設(shè)備制造，原料主要包括高純度石英錠、光刻膠、基板、光刻機(jī)，設(shè)備主要用到母板、基臺(tái)、張網(wǎng)機(jī)、焊接機(jī)等；中游為掩膜版制造，根據(jù)產(chǎn)品的不同分為鉻版、干版、液體凸版和凸版;根據(jù)用途的不同分為IC、FPD、PCB、MEMS用掩膜版等;根據(jù)組成成分的不同，可分為樹(shù)脂/玻璃基板掩膜版、乳膠/硬質(zhì)遮光膜掩膜版等；下游主要應(yīng)用在半導(dǎo)體、平板顯示、觸控等產(chǎn)業(yè)中。

圖表 1 中國(guó)掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈全景

3、行業(yè)現(xiàn)狀

2017-2021年國(guó)內(nèi)平板顯示掩膜版市場(chǎng)占全球的比重在32%-54%之間，逐年遞增，全球平板顯示掩膜版市場(chǎng)規(guī)模也從2017年的47億元上升至56億元。另依據(jù)研精畢智市場(chǎng)調(diào)研網(wǎng)數(shù)據(jù)，我國(guó)平板顯示掩膜版市場(chǎng)規(guī)模約占整體掩膜版市場(chǎng)規(guī)模的28%。依據(jù)以上數(shù)據(jù)進(jìn)行測(cè)算，2017-2021年，我國(guó)掩膜版市場(chǎng)規(guī)模整體呈上升趨勢(shì)(除2020年有所下降)，2020年全球光掩膜版市場(chǎng)規(guī)模達(dá)41.88億美元，研精畢智分析師預(yù)計(jì)2023年將達(dá)51億美元。

圖表 2 2017-2022年中國(guó)掩膜版市場(chǎng)規(guī)模

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