光刻膠起源于美國，柯達(dá)KTFR光刻膠為光刻膠工業(yè)的開創(chuàng)者，光刻膠跟隨摩爾定律不斷演進(jìn)。1950s貝爾實(shí)驗(yàn)室嘗試開發(fā)首塊集成電路，半導(dǎo)體光刻膠由此誕生，并成為六七十年代半導(dǎo)體工業(yè)的主力體系，為半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展立下汗馬功勞。

一、光刻膠行業(yè)概述

1、行業(yè)定義

光刻膠是半導(dǎo)體，面板，PCB等領(lǐng)域加工制造中的關(guān)鍵材料。光刻膠是由樹脂，感光劑，溶劑，光引發(fā)劑等組成的混合液態(tài)感光材料。光刻膠應(yīng)用的原理是利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)光刻工藝將所需要的微細(xì)圖形轉(zhuǎn)移到加工襯底上，來達(dá)到在晶圓上刻蝕出所需的圖形或抗離子注入的目的。

2、產(chǎn)業(yè)鏈

光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈上游為原材料及設(shè)備，包括樹脂、溶劑、單體、光引發(fā)劑、生產(chǎn)設(shè)備以及檢測(cè)設(shè)備等；中游為光刻膠，主要包括PCB光刻膠、面板光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠；下游為應(yīng)用領(lǐng)域，光刻膠廣泛應(yīng)用于PCB、半導(dǎo)體、面板顯示、芯片等。

二、全球光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析

1、市場(chǎng)規(guī)模

當(dāng)前光刻膠市場(chǎng)發(fā)展?jié)摿薮?。根?jù)北京研精畢智信息咨詢有限公司的數(shù)據(jù)顯示，2020年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約19億美元，2021年增長(zhǎng)至20億美元。預(yù)計(jì)在2022年市場(chǎng)規(guī)模將增長(zhǎng)到22億美元左右。

2、下游應(yīng)用領(lǐng)域

從光刻膠下游應(yīng)用領(lǐng)域分布情況看，全球光刻膠在面板顯示領(lǐng)域所占比重最高，約為28%。在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用比例為22%，其次是PCB領(lǐng)域，占比約23%。光刻膠在其他領(lǐng)域的占比攻擊約27%。

3、細(xì)分市場(chǎng)結(jié)構(gòu)

北京研精畢智的數(shù)據(jù)顯示，全球光刻膠細(xì)分市場(chǎng)中，ArFi光刻膠和KrF光刻膠的市場(chǎng)份額最大，均在30%以上，分別為40%和33%。其次是g/I光刻膠，市場(chǎng)份額約為17%。ArF市場(chǎng)份額約10%。其他細(xì)分市場(chǎng)市場(chǎng)占比約1%。

4、競(jìng)爭(zhēng)格局

目前全球的光刻膠生產(chǎn)企業(yè)主要集中在日本與美國，在最為尖端的ArF干法光刻膠、ArF浸沒式光刻膠和EUV光刻膠產(chǎn)品領(lǐng)域，日本與美國廠商擁有絕對(duì)的壟斷地位，而我國在這些尖端半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品上雖有一定的技術(shù)儲(chǔ)備和產(chǎn)品驗(yàn)證，但是在量產(chǎn)層面完全處于空白。

從全球市場(chǎng)來看，2021年行業(yè)CR6約為88%，市場(chǎng)集中度高。東京應(yīng)化、JSR、住友化學(xué)、富士膠片四大日本企業(yè)分別占據(jù)27%、13%、12%、8%的市場(chǎng)份額，陶氏化學(xué)占據(jù)17%的市場(chǎng)份額，韓國東進(jìn)占據(jù)11%的市場(chǎng)份額。

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