電子束曝光系統(tǒng)EBL,又稱電子束暴光系統(tǒng)是一種利用電子束在工件面上掃描直接產(chǎn)生圖形的裝置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式與電子束曝光機十分相近,美國JC Nabity Lithography Systems公司是最早研發(fā)了基于改造商品SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置(Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng),簡稱NPGS,又稱電子束微影系統(tǒng))。2019年,全球電子束曝光系統(tǒng) (EBL)市場規(guī)模達到了11億元。
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