1、行業(yè)壁壘
靶材生產工藝復雜且技術要求高,需要掌握一系列核心技術,包括高純金屬純度控制與提純技術、晶粒晶向控制技術、異種金屬大面積焊接技術、金屬精密加工與特殊處理技術以及清洗包裝技術等。靶材供應鏈具有嚴格的供應商認證機制,下游客戶對靶材供應鏈管理體系的要求較高,認證周期為2-3年,且一般不會輕易調整主供應商。因此,靶材企業(yè)在開拓新的細分市場方面面臨著較大的挑戰(zhàn)。

圖表 1 靶材生產過程中的五大核心技術
2、下游市場規(guī)模
2.1平板顯示
近年來,國內平面顯示用濺射靶材市場在全球顯示面板出貨面積增長、平面顯示產業(yè)轉移、顯示面板廠商采購國產化替代趨勢等因素的帶動下高速增長,市場前景可期。根據(jù)研精畢智市場調研網數(shù)據(jù)顯示,2020年中國平面顯示用濺射靶材市場規(guī)模增長至150億元。未來,平面顯示用濺射靶材行業(yè)市場規(guī)模預計仍將快速增長,預計2023年將達到246億元。
圖表 2 2017-2023年中國平板靶材顯示用靶材市場規(guī)模趨勢圖
2.2半導體
半導體集成電路用濺射靶材品種繁多,需求量較大,根據(jù)市場調研數(shù)據(jù)統(tǒng)計,濺射靶材在全球半導體制造材料和封裝測試材料市場的占比均接近3%。隨著半導體產業(yè)快速發(fā)展,中國半導體集成電路用濺射靶材市場將保持高速增長態(tài)勢。數(shù)據(jù)顯示,2020年中國半導體集成電路用濺射靶材市場規(guī)模增長至17億元,預計2023年其市場規(guī)模將達23億元。
圖表 3 2017-2023年中國半導體用靶材市場規(guī)模趨勢圖
3、發(fā)展前景
中國靶材行業(yè)在面臨挑戰(zhàn)的同時,也迎來了一系列發(fā)展機遇。首先,得益于下游應用領域的發(fā)展升級靶材行業(yè)的市場規(guī)模在不斷擴大,對于靶材技術和性能的要求也隨之提高,同時濺射靶材的下游應用領域廣泛,包括平面顯示、半導體集成電路、太陽能電池等戰(zhàn)略新興產業(yè),以及傳統(tǒng)產業(yè)如玻璃鍍膜、裝飾鍍膜、工具鍍膜等。這些下游領域的發(fā)展為靶材行業(yè)提供了廣闊的市場空間。
其次,中國在ITO靶材制造技術上的突破,打破了西方國家的壟斷,這不僅標志著中國在材料制造工藝上的進步,還提高了國民收入,推動了中國經濟的發(fā)展。但是,在高端ITO靶材的制造工藝上,我們還需要繼續(xù)努力。在靶材行業(yè)的國產化進程中,越來越多的國內企業(yè)開始加入這個市場,如江豐電子和有研新材,從而提高了市場的競爭力。
再者,從政策層面來看,國家對靶材行業(yè)的發(fā)展給予了高度重視。“十四五”期間,國家將集成電路設計工具、重點裝備與關鍵材料作為集成電路關鍵發(fā)展方向,首次提出研發(fā)“高純靶材”等關鍵材料。
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